Установка напыления УМПН 02 УХЛ4

Установка предназначена для микроплазменного напыления порошковых материалов на поверхности изделий, к которым предъявляются повышенные эксплуатационные требования в отношении износостойкости и коррозионной стойкости, а также для восстановления изношенных поверхностей и нанесения специальных покрытий.

 

Напряжение питания, номинальное, В...........................................220

Частота питающей сети, Гц.............................................................50

Установленная мощность, кВА........................................................2,0

Мощность плазмотрона, кВт............................................................1,5

Производительность по напыленному материалу, кг/ч.................0,2-2,0

Вместимость чаши для порошка, л..................................................0,3

Расход аргона, л/ч, в пределах........................................................300-500

Расход воды для охлаждения, л/ч...................................................50

Вес источника питания, кг.................................................................22

Вес питателя порошка и плазмотрона с коммуникациями, кг…….5