Установка предназначена для микроплазменного напыления порошковых материалов на поверхности изделий, к которым предъявляются повышенные эксплуатационные требования в отношении износостойкости и коррозионной стойкости, а также для восстановления изношенных поверхностей и нанесения специальных покрытий.
Напряжение питания, номинальное, В...........................................220
Частота питающей сети, Гц.............................................................50
Установленная мощность, кВА........................................................2,0
Мощность плазмотрона, кВт............................................................1,5
Производительность по напыленному материалу, кг/ч.................0,2-2,0
Вместимость чаши для порошка, л..................................................0,3
Расход аргона, л/ч, в пределах........................................................300-500
Расход воды для охлаждения, л/ч...................................................50
Вес источника питания, кг.................................................................22
Вес питателя порошка и плазмотрона с коммуникациями, кг…….5
